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你知道光譜干擾嗎？今天ICP光譜儀小編就和您一起了解。
由于ICP光源激發(fā)能量高，產(chǎn)生大量的發(fā)射譜線，在(200~1000)nm波長范圍內(nèi)，據(jù)統(tǒng)計(jì)有1000余萬條譜線，平均0.1nm就分布100度條，幾乎每個(gè)元素的分析線都受到不同程度譜線干擾。檢查光譜干擾最有效的方法，是對分析線附近進(jìn)行掃描，單獨(dú)檢查每個(gè)共存元素在該波段的發(fā)射情況，以確定是否要另選分析線或者進(jìn)行干擾校正。在使用全譜直讀型ICP時(shí)，光譜背景的校正比較靈活。光譜干擾是ICP-AES中的主要干擾，可分為譜線重疊干擾和背景干擾。
1譜線重疊干擾
譜線重疊干擾是指另外一個(gè)元素的譜線重疊或部分重疊在測定元素的分析線上形成的干擾。主要采用干擾系數(shù)(IEC)校正法來進(jìn)行校正，譜線重疊主要包括直接重疊和分析線變寬引起的線翼重疊。其主要的干擾線和分析線完全重合。其主要的干擾類型有以下兩種：
(1)直接譜線重疊，干擾線和分析線完全重疊。
(2)復(fù)雜譜線重疊，分析線和兩條以上的干擾線重疊。
如果干擾譜線與分析譜線完全重疊，譜線干擾可以用干擾等濃度法或干擾系數(shù)法來校正。該方法是通過測定干擾元素。標(biāo)準(zhǔn)溶液在待測定元素譜線位置處的強(qiáng)度，求出單位濃度干擾元素的干擾量(干擾系數(shù))，再計(jì)算出應(yīng)予扣除的干擾線影響的濃度值。如：地質(zhì)樣品中用Cr205.552nm作為分析線進(jìn)行測定時(shí)，大量鐵會(huì)有干擾。當(dāng)鐵的質(zhì)量濃度為1000mg/L時(shí)，造成鉻質(zhì)量濃度增加0.2mg/L。干擾系數(shù)為0.2/1000=0.0002.求出干擾系數(shù)后，可從分析結(jié)果中扣除由于干擾造成的濃度增加，因而得出無干擾的分析系數(shù)。這種方法必須同時(shí)冊數(shù)干擾元素濃度。對于普通的ICP光譜儀，這是比較常用的校正方法。
如果干擾譜線與分析譜線是部分重疊，則IEC常常會(huì)得到錯(cuò)誤的結(jié)果，因?yàn)閷τ诓糠种丿B的情況，IEC的干擾因子不是固定的值，隨著干擾元素濃度的變化而呈現(xiàn)變化。這時(shí)候就需要采用多譜線擬合(MSF)來進(jìn)行校正。
