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什么是ICP光譜儀的去溶干擾?
點(diǎn)擊次數(shù):0 發(fā)布時(shí)間:2016-04-21
 

1. 去溶干擾就是去除溶劑的干擾,主要是扣除背景.
2.
可以提高靈敏度,降低檢出限.
3.
去溶過程主要出現(xiàn)于分析液體樣品的原子吸收和ICP發(fā)射光譜,它是指將霧化后的液(濕)氣溶膠中溶劑揮發(fā)變?yōu)楦蓺馊苣z的過程。對(duì)于ICP來說,因?yàn)榧訜釛l件比較好,只要使氣溶膠在分析通道的停留時(shí)間足夠長(zhǎng),即使不用去溶裝置也可使分析物完全揮發(fā),而基本上沒有什么去溶損失,所以ICP的去溶干擾并不十分明顯,更不是很重要。

聯(lián)系人:李先生
電話:010-67892001
手機(jī):13521683201
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